| 摘要 |
기재의 자전 및 공전에 의해, 기재의 외주면에 둘레 방향의 균일성이 우수한 막 두께를 가진 복합 피막을 성막하는 것이 가능한 PVD 처리 장치(1) 및 방법이 제공된다. PVD 처리 장치(1)는, 진공 챔버와, 진공 챔버 내에서 공전축(7) 주위에 복수의 기재(W)를 공전시키는 공전 테이블과, 각 기재(W)를 공전 테이블 상에서 공전축(7)과 평행한 자전축(8) 주위로 자전시키는 자전 테이블(4)과, 공전 테이블의 직경 방향 외측에 있어서 서로 둘레 방향으로 떨어진 위치에 설치되는 복수 종류의 타깃(5)과, 각 타깃(5)의 중앙으로부터 각 자전 테이블(4)을 포락하는 원호에 대하여 그어진 2개의 접선(L1, L2) 사이를 기재 W가 통과하는 동안에 자전 테이블(4)을 180° 이상의 각도에 걸쳐서 자전시키는 테이블 회전 기구(6)를 구비한다. |
