发明名称 METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC PROCESSING FLUID FOR PATTERNING OF CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST FILM, ORGANIC PROCESSING FLUID FOR PATTERNING OF CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
摘要 액 입구부와, 액 출구부와, 상기 액 입구부와 상기 액 출구부를 접속하는 유로 내에 마련된 여과 필터막을 갖는 여과 장치에, 유기 용제를 함유하는 액을 통과시키는 공정을 갖는, 화학 증폭형 레지스트막의 패터닝용 유기계 처리액의 제조 방법으로서, 상기 액 입구부에 있어서의 상기 액의 온도(TI)와, 상기 액 출구부에 있어서의 상기 액의 온도(To)와의 차의 절댓값(|TI-To|)이 3℃ 이하이고, 상기 여과 장치에 있어서의 상기 액의 여과 속도가 0.5L/분/㎡ 이상이며, 상기 여과 장치에 있어서의 상기 액에 의한 여과 압력이 0.1MPa 이하인, 화학 증폭형 레지스트막의 패터닝용 유기계 처리액의 제조 방법에 의하여, 특히, 유기계 현상액을 이용하여 미세화(예를 들면, 30nm노드 이하) 패턴을 형성하는 네거티브형 패턴 형성 기술에 있어서, 파티클의 발생을 저감 가능한, 화학 증폭형 레지스트막의 패터닝용 유기계 처리액의 제조 방법, 및 이를 이용한 화학 증폭형 레지스트막의 패터닝용 유기계 처리액, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 및 전자 디바이스를 제공한다.
申请公布号 KR20150126641(A) 申请公布日期 2015.11.12
申请号 KR20157027078 申请日期 2014.03.24
申请人 FUJIFILM CORPORATION 发明人 YAMANAKA TSUKASA;KAWAMOTO TAKASHI;IGUCHI NAOYA
分类号 G03F7/32;B01D71/06;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 G03F7/32
代理机构 代理人
主权项
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