| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够高精度地检测出作为残渣残留在研磨后的基板的被研磨面上的金属膜的基板处理装置。基板处理装置包括：研磨部(3)，对基板的被研磨面进行研磨并去除形成于被研磨面上的金属膜；清洗部(4)，对通过研磨部(3)研磨后的所述基板进行清洗干燥；临时放置台(180)，临时放置在基板通过所述研磨部(3)研磨后临时放置基板。在临时放置台(180)上，设有对基板的被研磨面上残留的金属膜进行检测的传感器(8、9)。 | ||
| 申请公布号 | CN105047582A | 申请公布日期 | 2015.11.11 |
| 申请号 | CN201510186031.5 | 申请日期 | 2015.04.17 |
| 申请人 | 株式会社荏原制作所 | 发明人 | 丸山浩二 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人 | 彭里 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其特征在于，包括：研磨部，其对基板的被研磨面进行研磨并去除形成于所述被研磨面上的金属膜；清洗部，其对通过所述研磨部研磨后的所述基板进行清洗干燥；以及临时放置台，其在所述基板通过所述研磨部研磨后临时放置所述基板，在所述临时放置台上，设有对所述基板的被研磨面上残留的金属膜进行检测的传感器。 | ||
| 地址 | 日本东京都大田区羽田旭町11番1号 | ||