发明名称 氧碳-、拟氧碳-、轴烯化合物及其用法
摘要
申请公布号 TWI508342 申请公布日期 2015.11.11
申请号 TW097115617 申请日期 2008.04.28
申请人 诺瓦发光二极体股份公司 发明人 霍斯特 哈特曼;奥拉夫 蔡卡;安德里亚 路克斯;史蒂芬 威尔曼
分类号 H01L51/00;C07C49/385;C07C255/31;C07D409/14 主分类号 H01L51/00
代理机构 代理人 蔡清福 台北市中山区中山北路3段27号13楼
主权项 一种有机内消旋化合物做为有机掺杂剂以掺杂有机半导基质材料、做为阻挡层、做为电荷注入层或做为有机半导体本身之用途,其特征在于该内消旋化合物系为一具有下列分子式的氧碳-、拟氧碳-及轴烯化合物: 其中n=1-4;X1、X2及X3的每一个系独立地由C(CN)2、(CF3)C(CN)、(NO2)C(CN)、C(卤素)2、C(CF3)2、NCN、O、S、NR1、所组成群组选出,其中Y=CN、NO2、COR1或是系为全卤化烷基;芳基或是Ar系为经取代或未经取代芳香族烃或联芳基;杂芳基系为经取代或未经取代芳香族杂环化合物或是联杂芳基;及R1-R8系独立地选自氢、卤素、CN、NO2、烷基、烷氧基、芳基及杂芳基;X4及X5为独立地选自侧氧基以及二氰基亚甲基;其中,当n等于1时,X1、X2及X3不同时为C(CN)2。
地址 德国