| 发明名称 | 一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的辅助装置 | ||
| 摘要 | 一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的辅助装置，包括母头连接件、波纹管、气路集合管、氦气检漏接口及公头丝堵。多个波纹管通过气路集合管并联，气路集合管的末端连接氦气检漏接口。波纹管的上端连接母头连接件，公头丝堵与母头连接件通过螺纹连接。本实用新型的有益效果及特点：结构紧凑合理，由于采用了波纹管连接，可对不同气路间距的气体集中控制系统实施氦气检漏、保压及填充正压等操作；满足不同的气体集中控制系统在到货时的检验及发货时填充正压的要求。 | ||
| 申请公布号 | CN204756260U | 申请公布日期 | 2015.11.11 |
| 申请号 | CN201520420234.1 | 申请日期 | 2015.06.17 |
| 申请人 | 沈阳拓荆科技有限公司 | 发明人 | 吕光泉;刘忆军;张建;吴凤丽 |
| 分类号 | F16L41/03(2006.01)I;F16L41/16(2006.01)I;F16L27/10(2006.01)I | 主分类号 | F16L41/03(2006.01)I |
| 代理机构 | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人 | 李绪岩 |
| 主权项 | 一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的辅助装置，其特征在于：包括母头连接件、波纹管、气路集合管、氦气检漏接口及公头丝堵；多个波纹管通过气路集合管并联，气路集合管的末端连接氦气检漏接口，波纹管的上端连接母头连接件，公头丝堵与母头连接件通过螺纹连接。 | ||
| 地址 | 110179 辽宁省沈阳市浑南新区新源街1-1号三层 | ||