| 发明名称 | 批处理式基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种批处理式基板处理装置。本发明涉及的批处理式基板处理装置(100)，可对多个基板(10)进行基板处理，其特征在于，包括：本体(110)，其包括腔室(101)，该腔室(101)用于提供对多个基板(10)进行基板处理的空间；多个加热单元(120)，配置于腔室(101)的至少一侧面上；以及基板搬送单元(130)，在腔室(101)内搬送基板(10)；其中，腔室(101)被划分为，对基板(10)进行基板处理的第1温度区域(103)及以比第1温度区域(103)更高的温度对基板(10)进行基板处理的第2温度区域(105)。 | ||
| 申请公布号 | CN105047584A | 申请公布日期 | 2015.11.11 |
| 申请号 | CN201510202051.7 | 申请日期 | 2015.04.24 |
| 申请人 | 泰拉半导体株式会社 | 发明人 | 李炳一;朴暻完;许官善 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人 | 姜虎;陈英俊 |
| 主权项 | 一种批处理式基板处理装置，能够对多个基板进行基板处理，其特征在于，包括：本体，其包括腔室，该腔室用于提供对所述多个基板进行基板处理的空间；多个加热单元，配置在所述腔室的至少一侧面上；以及基板搬送单元，在所述腔室内搬送所述基板；其中，所述腔室被划分为，对所述基板进行基板处理的第1温度区域及以比所述第1温度区域更高的温度对所述基板进行基板处理的第2温度区域。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||