发明名称 | 污水净化装置 | ||
摘要 | 本发明涉及一种污水净化装置,设置在柱形罐体内,包含:污泥沉积装置,其设置在所述的柱形罐体的底部,对污水进行初步泥水分离;絮凝分离装置,其设置在所述的污泥沉积装置的上方,对泥水分离后的水流中的悬浮物进行分离截留;多重过滤装置,其设置在所述的絮凝分离装置的上方,对去除悬浮物后的水流进行微小杂质以及磷的滤除;紫外净水装置,其设置在所述的多重过滤装置的上方,对滤除微小杂质以及磷后的水流进行紫外光照射消毒。本发明结构简单,占地面积小,且污水经过多重净化,有效提高净化效率。 | ||
申请公布号 | CN105036430A | 申请公布日期 | 2015.11.11 |
申请号 | CN201510457289.4 | 申请日期 | 2015.07.30 |
申请人 | 上海宇海企业发展集团有限公司 | 发明人 | 凌超 |
分类号 | C02F9/08(2006.01)I | 主分类号 | C02F9/08(2006.01)I |
代理机构 | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人 | 徐雯琼;徐茂泰 |
主权项 | 一种污水净化装置,其特征在于,设置在柱形罐体(1)内,包含:污泥沉积装置,其设置在所述的柱形罐体(1)的底部,对污水进行初步泥水分离;絮凝分离装置,其设置在所述的污泥沉积装置的上方,对泥水分离后的水流中的悬浮物进行分离截留;多重过滤装置,其设置在所述的絮凝分离装置的上方,对去除悬浮物后的水流进行微小杂质以及磷的滤除;紫外净水装置,其设置在所述的多重过滤装置的上方,对滤除微小杂质以及磷后的水流进行紫外光照射消毒。 | ||
地址 | 200235 上海市徐汇区柳州路138号819室 |