一种改进的NiCr合金湿法刻蚀工艺

摘要

本发明公开了一种改进的NiCr合金湿法刻蚀工艺，步骤如下：①采用化学或物理气相沉积工艺在基片上沉积待刻蚀NiCr薄膜；②采用化学或物理气相沉积工艺在待刻蚀的NiCr薄膜上沉积一层不被NiCr刻蚀液刻蚀的保护膜；③在保护膜上涂覆光刻胶，刻蚀光刻胶得到需要的光刻胶掩版；④采用干法刻蚀工艺刻蚀保护膜上获得与光刻胶掩版一致的图形；⑤刻蚀NiCr薄膜获得所需的NiCr图形；⑥依次去除光刻胶和保护膜，得到最终所需的NiCr图形。本发明中，保护膜与NiCr薄膜形成紧密的接触，从而能防止产生过刻蚀，刻蚀的图形边缘清晰无毛边，均匀性良好。

主权项

一种改进的NiCr合金湿法刻蚀工艺，其特征在于，步骤如下：①采用化学或物理气相沉积工艺在基片上沉积待刻蚀NiCr薄膜；②采用化学或物理气相沉积工艺在待刻蚀的NiCr薄膜上沉积一层不被NiCr刻蚀液刻蚀的保护膜；③在保护膜上涂覆光刻胶，刻蚀光刻胶得到需要的光刻胶掩版；④采用干法刻蚀工艺刻蚀保护膜上获得与光刻胶掩版一致的图形；⑤刻蚀NiCr薄膜获得所需的NiCr图形；⑥依次去除光刻胶和保护膜，得到最终所需的NiCr图形。