| 发明名称 | 高折射率加成-断裂剂 | ||
| 摘要 | 本发明描述了具有如下官能团的加成断裂剂：1)不稳定的加成-断裂基团，其可以裂解和重组以消除应变，2)至少一种高折射率基团，和3)至少一种烯键式不饱和可聚合基团。 | ||
| 申请公布号 | CN105051007A | 申请公布日期 | 2015.11.11 |
| 申请号 | CN201480016935.7 | 申请日期 | 2014.03.13 |
| 申请人 | 3M创新有限公司 | 发明人 | W·H·莫泽;G·D·乔利;A·R·弗诺夫;A·S·阿比尔雅曼;A·法尔萨菲;L·R·克雷普斯基 |
| 分类号 | C07C271/28(2006.01)I;C07C69/76(2006.01)I;C07C69/78(2006.01)I;C08F220/20(2006.01)I;C08F220/26(2006.01)I;C08F220/30(2006.01)I;C08F220/34(2006.01)I | 主分类号 | C07C271/28(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 陈长会 |
| 主权项 | 一种下式的加成断裂剂：<img file="FDA0000806348470000011.GIF" wi="1512" he="406" />其中R<sup>1</sup>各自独立地为(杂)烷基基团或(杂)芳基基团；Y为‑O‑、‑S‑、‑O‑CO‑、O‑CO‑NH‑、‑N‑CO‑、或‑NR<sup>4</sup>‑，其中R<sup>4</sup>为H或C<sub>1</sub>‑C<sub>4</sub>烷基；每个X<sup>1</sup>独立地为‑O‑或‑NR<sup>4</sup>‑，其中R<sup>4</sup>为H或C<sub>1</sub>‑C<sub>4</sub>烷基，并且n为0或1；m各自独立地为1或2，R<sup>2</sup>为烷基、芳基、高折射率基团、或和烯键式不饱和可聚合基团；所述R<sup>2</sup>基团中的至少一个为高折射率基团；所述R<sup>2</sup>基团中的至少一个包括烯键式不饱和可聚合基团；并且所述加成‑断裂剂具有≥1.50的折射率。 | ||
| 地址 | 美国明尼苏达州 | ||