发明名称 溶剂可溶型反应性聚矽氧烷的制造方法
摘要
申请公布号 TWI507449 申请公布日期 2015.11.11
申请号 TW100148051 申请日期 2011.12.22
申请人 东亚合成股份有限公司 发明人 北村昭宪;古田尚正;铃木浩
分类号 C08G77/06;C08G77/20;C08G77/32 主分类号 C08G77/06
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种溶剂可溶型反应性聚矽氧烷的制造方法,其系具备于触媒的存在下,使含有下述通式(5)所示的有机矽化合物(S1)与由四烷氧基矽烷及四卤基矽烷中选出的至少1种矽化合物(S2)之具有矽氧烷键生成基的原料化合物,进行水解共聚缩合,而合成下述通式(1)所示的反应性聚矽氧烷之缩合步骤; [通式(5)中,R0系下述通式(2)所示的有机基,R1系选自碳原子数1~6之烷基、碳原子数7~10之芳烷基及碳原子数6~10之芳基之有机基,R11系矽氧烷键生成基,n为0或1];其特征为:于上述缩合步骤中,上述有机矽化合物(S1)及上述矽化合物(S2)系以莫耳比(S2)/(S1)成为1.8以下之方式使用,上述缩合步骤系在含有上述通式(5)所示的有机矽化合物(S1)与水之原料液中,徐徐添加矽化合物(S2)及上述触媒的混合物而进行,该混合物系一边将上述矽化合物(S2)的使用量相对于上述有机矽化合物(S1)的使用量之莫耳比维持在0.0017分钟~0.3/分钟之间,一边添加;[通式(1)中,R0系下述通式(2)所示的有机基,R1系选自碳原子数1~6之烷基、碳原子数7~10之芳烷基及碳原子数6~10之芳基之有机基,R2、R3及R4各自独立系氢原子或碳原子数1~10的烃基,R5系碳原子数1~6的烃基,n为0或1,a、w、x、y及z表示莫耳数,a及w为正的数,x、y及z为0或正的数,0<a/w≦1.8,0≦x/(a+w)≦2、0≦y/(a+w)≦2,0≦z/(a+w+x+y)≦1];[通式(2)中,R6系氢原子或甲基,R7系碳原子数1~6的伸烷基]。
地址 日本