发明名称 流体配给装置
摘要
申请公布号 TWI507303 申请公布日期 2015.11.11
申请号 TW099125715 申请日期 2010.08.03
申请人 惠普研发公司 发明人 戴芙瑞斯 马克A;帕洛斯基 诺曼;道威尔 丹
分类号 B41J2/175 主分类号 B41J2/175
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 一种流体配给装置,包含:一流体喷射器单元,具有复数个喷嘴,且在一纵长方向上延伸以形成一与一基片的一宽度对应的配给区,该流体喷射器单元被组配成经由该等喷嘴喷射流体至该配给区;复数个模组调节器构件,被组配成将流体调节至一预定压力范围,且将该调节的流体提供至该流体喷射器单元的一对应组喷嘴,该等模组调节器构件被配置在纵长方向,使得每一该等模组调节器构件与至少另一模组调节器构件相邻;及一流体通道单元,具有至少一个流体入口及复数个被组配成将流体提供至各别之模组调节器构件的流体通道。
地址 美国