金属网格透明导电体、其制备方法与电容式触摸屏

摘要

本申请提供了一种金属网格透明导电体、其制备方法与电容式触摸屏。该金属网格透明导电体的制备方法包括：形成第一层的金属网格透明导电膜；形成第二层的金属网格透明导电膜；形成中间层，中间层包括第一表面与第二表面，第一表面与第一层的金属网格透明导电膜的远离透明基材层的表面接触，第二表面与第二层的金属网格透明导电膜的远离透明基材层的表面接触。其中，金属网格透明导电膜的制备工艺包括：步骤S1，在透明基材层的表面形成绝缘层；步骤S2，对绝缘层进行刻蚀，形成凹槽；步骤S3，在凹槽中设置导电层，形成金属网格透明导电膜。该方法制备得到的金属网格的线宽较均匀，且可以达到微米级、甚至数百纳米级。

主权项

一种金属网格透明导电体的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：形成第一层的金属网格透明导电膜；形成第二层的金属网格透明导电膜；以及形成中间层，所述中间层包括第一表面与第二表面，所述第一表面与第一层的所述金属网格透明导电膜的远离透明基材层的表面接触，所述第二表面与第二层的所述金属网格透明导电膜的远离透明基材层的表面接触，其中，所述金属网格透明导电膜的制备工艺包括：步骤S1，在透明基材层的表面形成绝缘层；步骤S2，对所述绝缘层进行刻蚀，形成凹槽；以及步骤S3，在所述凹槽中设置导电层，形成金属网格透明导电膜。