发明名称 CVD反应器之加热装置
摘要
申请公布号 TWM512201 申请公布日期 2015.11.11
申请号 TW103207352 申请日期 2014.04.28
申请人 爱思强欧洲公司 发明人 布汀 皮埃尔 阿尔诺;欧本 马克 爱德芬;爱伦 基思;克罗雷 佛雷德 迈克 安德鲁
分类号 G12B5/00 主分类号 G12B5/00
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项 一种用于加热CVD反应器(1)的基座(4)之加热装置,具有至少一个加热元件(9、19),其中,该加热元件(9、19)的区段或者不同的加热元件(9、19)并排延伸并且藉由支撑件(10、20)相对于支撑板而定位,其中,该支撑件(10、20)分别具有形状接合地且牢固地插入一支撑板(29)的固定开口内的支脚和与横向于该支撑板(29)的延伸面延伸的柄部(14、24)相连接的头部,该加热元件(9、19)固定在该头部上,其特征在于:该支脚藉由形状接合固定件固定在该支撑板(29)的固定开口内,该形状接合固定件将该支撑件(10、20)沿该柄部(14、24)的延伸方向束缚在该支撑板(29)上。
地址 德国