薄膜电容器

摘要

一种薄膜电容器，包括多个介电薄膜的层、在层的第一端面处接触第一接口的第一接触层、在层的第二端面处接触第二接口的第二接触层，金属化层至少一侧地覆层到至少每隔一个介电薄膜上，每个金属化层与第一或第二接触层接触。至少一个金属化层的厚度从其接触的接触层出发沿其覆层长度变小，其中沿垂直于接触层直到金属化层的远离接触层的边缘的部段，与接触层邻接的部段半部上的金属化层平均厚度比远离接触层的部段半部上的大至少50％，和/或在至少一个由两个依次连续的介电薄膜构成的对中，各一个分别与相同接触层接触的金属化层覆层到其彼此相对的面上，薄膜在朝向接触层的边缘上具有由多个空隙形成的轮廓，和/或第一和第二接触层各由金属板覆盖。

主权项

一种薄膜电容器(1)，包括多个介电薄膜(4a‑4c)的层(2)、在所述层(2)的第一端面处与第一接口(12a)接触的第一接触层(10a)以及在所述层(2)的第二端面处的与第二接口(12b)相接触的第二接触层(10b)，其中，金属化层(8a，8b)至少一侧地覆层到至少每隔一个介电薄膜(4a，4c)上，并且其中，每个所述金属化层(8a，8b)要么与所述第一接触层(10a)相接触要么与所述第二接触层(10b)相接触，其特征在于，至少一个所述金属化层(8a，8b)的厚度从与该金属化层相接触的接触层(10a，10b)出发沿着所述金属化层的覆层长度变小，其中，沿着垂直于所述接触层(10a，10b)导向至所述金属化层(8a，8b)的远离所述接触层(10a，10b)的边缘的部段，在所述部段的与所述接触层(10a，10b)邻接的半部上的所述金属化层(8a，8b)的平均厚度比在所述部段的远离所述接触层(10a，10b)的半部上的所述金属化层(8a，8b)的平均厚度大至少50％，并且在至少一个由两个依次连续的介电薄膜(4a，4c)构成的对中，各一个分别与相同的所述接触层(10a，10b)相接触的金属化层(8a，8b)覆层到该介电薄膜的彼此相对的面上，一个介电薄膜(4a，4c)在朝向该接触层(10a，10b)的边缘处具有由多个空隙(22a，22b，28a)形成的轮廓(20a，20b)。