图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、制造电子元件的方法及电子元件

摘要

根据一个实施例，一种图案形成方法包含(a)由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜；(b)使所述膜曝光；及(c)用含有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影，从而形成负型图案。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含(A)当受酸作用时在所述含有机溶剂的显影剂中的溶解度降低的树脂，所述树脂含有具有以下通式(1)所表示的任何内酯结构的重复单元；及(B)在曝露于光化射线或放射线时产生酸的化合物。

主权项

一种图案形成方法，包括：(a)由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜；(b)使所述膜曝光；以及(c)用含有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影，从而形成负型图案，其中所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包括：(A)当受酸作用时在所述含有机溶剂的显影剂中的溶解度降低的树脂，所述树脂含有具有以下通式(1)所表示的任何内酯结构的重复单元；以及(B)当曝露于光化射线或放射线时产生酸的化合物，其中R₁表示烷基、环烷基、烷氧基、芳氧基、芳烷氧基、烷氧基羰基、羧基、卤素原子、羟基、氰基或酸可分解基团，其限制条件为当存在多个R₁时，所述R₁可彼此相同或不同，以及a为0至4的整数。