HEALING METHOD OF DEFECT USING ATOMIC LAYER DEPOSITION

摘要

본 발명은 원자층 증착법을 이용하여 전구체를 기재 표면에 노출시켜 결함을 치유하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 치유 방법에 의할 경우 그래핀과 같은 이차원 나노소재에 존재하는 결함이 치유되어 소재가 이론적으로 지니는 뛰어난 물리적 성질에 가까운 값에 도달하게 할 수 있다.