发明名称 具有带改进耦合比的浮闸和耦合闸的非易失性记忆体胞元
摘要
申请公布号 TWI508230 申请公布日期 2015.11.11
申请号 TW101126610 申请日期 2012.07.24
申请人 超捷公司 发明人 王春明;乔保卫;张祖发;章仪;王序伦;吕文瑞
分类号 H01L21/8247;H01L27/115 主分类号 H01L21/8247
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 一种非易失性记忆体胞元,包括:具有顶面的第一导电类型的半导体衬底;所述衬底中沿所述顶面的第二导电类型的第一区域;所述衬底中沿所述顶面的所述第二导电类型的第二区域,与所述第一区域间隔开;所述第一区域与所述第二区域之间的沟道区;字线闸,定位在所述沟道区的第一部分之上,与所述第一区域紧邻,所述字线闸通过第一绝缘层与所述沟道区间隔开;定位在所述沟道区的另一部分之上的浮闸,所述浮闸具有通过第二绝缘层与所述沟道区分隔的下表面以及与所述下表面相对的上表面;所述浮闸具有与所述字线闸相邻但分隔的第一侧壁以及与所述第一侧壁相对的第二侧壁,其中所述上表面具有从所述第一侧壁到所述第二侧壁的非平坦轮廓;定位在所述浮闸的上表面之上并且通过第三绝缘层与其绝缘的耦合闸,所述耦合闸具有下表面,所述下表面的轮廓沿用所述浮闸的所述上表面的轮廓;以及定位成与所述浮闸的第二侧壁相邻的擦除闸,所述擦除闸定位在所述第二区域之上并且与其绝缘;其中,所述浮闸的所述上表面具有单一台阶状之非平坦轮廓,使得所述第二侧壁高于所述第一侧壁。
地址 美国