| 发明名称 | 一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法，该方法采用金属丝网作为基片，并通过热压方法将PMMA光刻胶薄片粘接在该金属丝网上。利用本发明，采用金属丝网结构能够有效提供PMMA光刻胶与金属丝网从分相互包裹融合，使同步辐射光刻后的PMMA光刻胶柱子结构牢固地与金属丝网结合，不会发生倒塌和脱落，保证了PMMA光刻胶柱子结构具有非常大的高宽比，从而提高了LIGA技术的研究水平。 | ||
| 申请公布号 | CN103488051B | 申请公布日期 | 2015.11.11 |
| 申请号 | CN201310380360.4 | 申请日期 | 2013.08.28 |
| 申请人 | 中国科学院高能物理研究所 | 发明人 | 伊福廷 |
| 分类号 | G03F7/16(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 任岩 |
| 主权项 | 一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法，其特征在于，该方法采用金属丝网作为基片，并通过热压方法将PMMA光刻胶薄片粘接在该金属丝网上；其中，所述热压温度在PMMA光刻胶的软化点附近，温度范围110‑180℃；所述热压压力选用重物和压力机提供，压强范围0.5‑10公斤/平方厘米。 | ||
| 地址 | 100049 北京市石景山区玉泉路19号乙 | ||