| 发明名称 |
光阻组成物、光阻图型之形成方法、新颖的化合物及酸产生剂 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI507424 |
申请公布日期 |
2015.11.11 |
| 申请号 |
TW098142072 |
申请日期 |
2009.12.09 |
| 申请人 |
东京应化工业股份有限公司 |
发明人 |
川上晃也;内海义之;秀坂慎一;圆山夏子 |
| 分类号 |
C08F20/10;C07C381/12;G03F7/004;H01L21/027 |
主分类号 |
C08F20/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
| 主权项 |
一种光阻组成物，其为含有经由酸之作用而对硷显影液之溶解性产生变化之基材成份(A)，及经由曝光而产生酸之酸产生剂成份(B)之光阻组成物，其特征为，前述酸产生剂成份(B)为含有下述具有通式(I)所表示之基的阳离子部之化合物所形成之酸产生剂(B1)，[式(I)中，R5表示氢原子或可具有取代基之碳数1～30之有机基，Q5为单键或2价之键结基]。 |
| 地址 |
日本 |
