发明名称 一种显示装置、阵列基板及其制作方法
摘要 本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示装置、阵列基板及其制作方法。该阵列基板包括:基板,所述基板上依次设有薄膜晶体管、钝化层和透明电极层,所述树钝化层上形成凹槽,所述透明电极层设置于凹槽内。本发明提供的显示装置、阵列基板及其制作方法,制作工艺简单,采用具有凹槽的钝化层,利用光刻胶进行灰化工艺形成透明电极层,从而省略制备透明电极的掩模板,可最大程度降低制造成本。
申请公布号 CN103151359B 申请公布日期 2015.11.11
申请号 CN201310082081.X 申请日期 2013.03.14
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 崔承镇;刘圣烈;宋泳锡
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I;G02F1/1343(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 王莹
主权项 一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:在基板上形成包括薄膜晶体管和钝化层的图形,所述钝化层上形成凹槽;在凹槽内形成透明电极的图形,所述透明电极层为像素电极,所述凹槽内的所述像素电极形成与所述凹槽形状相似的凹陷,所述在凹槽内形成透明电极的图形,具体包括:在形成凹槽的基板上形成透明导电层;在完成上述步骤的基板上涂覆光刻胶;依据钝化层上具有的凹槽,形成在凹槽部分的光刻胶和凹槽以外的光刻胶的厚度差,对光刻胶进行灰化处理,保留凹槽区域的光刻胶,去除凹槽以外其他区域的光刻胶以暴露出透明导电层;采用刻蚀工艺将暴露出的透明导电层去除,剥离所述凹槽部分的的光刻胶,形成透明电极的图形。
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