发明名称 一种氮化硅微米管制造方法
摘要 本发明公开了一种氮化硅微米管的制备方法,该方法将去除保护层的光纤表面涂覆一层均匀的石墨粉后在300~600℃的温度区间内热解,使光纤表面形成均匀厚度的碳膜;再将光纤在氮气条件下以1100~1600℃的温度区间高温加热,使碳膜与光纤表面的二氧化硅产生反应生成硅,然后硅与氮气发生反应在光纤表面形成氮化硅薄膜;将形成氮化硅薄膜的光纤刻蚀掉,形成中空的氮化硅微米管。该氮化硅微米管与炭黑进行混合,使氮化硅微米管增强导电性,然后在其中加入热熔型粘结剂形成混合物,再均匀涂在洗净的铜箔表面,可得到氮化硅微米管组成的硅负极材料。本发明制造的氮化硅微米管结构可用于制备锂电池的电极材料。本发明方法工艺流程简单,可控性强,成本比较低。
申请公布号 CN105047920A 申请公布日期 2015.11.11
申请号 CN201510388039.X 申请日期 2015.07.03
申请人 华中科技大学 发明人 汤自荣;胡浩;龙胡;龚渤;史铁林
分类号 H01M4/58(2010.01)I;H01M4/136(2010.01)I;H01M10/0525(2010.01)I;C01B21/068(2006.01)I 主分类号 H01M4/58(2010.01)I
代理机构 华中科技大学专利中心 42201 代理人 曹葆青
主权项 一种氮化硅微米管制造方法,该方法包括下述步骤:第1步将去除保护层的光纤表面涂覆一层均匀的石墨粉后在300~600℃的温度区间内热解,使光纤表面形成一层均匀厚度的碳膜;第2步将表面覆盖一层碳膜的光纤在氮气条件下以1100~1600℃的温度区间高温加热,使光纤表面的碳膜与光纤表面的二氧化硅产生反应生成硅,然后生成的硅与氮气发生反应在光纤表面形成氮化硅薄膜;第3步将形成氮化硅薄膜的光纤刻蚀掉,形成中空的氮化硅微米管。
地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号