发明名称 表膜用膜和表膜
摘要 提供对EUV光具有高透射性、具有实用上充分的物理强度和耐久性,并且能够容易地去除膜碎片、且生产率优异的表膜用膜和表膜。表膜用膜(1)由碳多孔体膜构成,膜厚D为100nm~63μm。
申请公布号 CN105051604A 申请公布日期 2015.11.11
申请号 CN201480015635.7 申请日期 2014.03.11
申请人 旭化成电子材料株式会社 发明人 宫下宪和
分类号 G03F1/62(2006.01)I;G03F1/24(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 G03F1/62(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;李茂家
主权项 一种表膜用膜,其由碳多孔体膜构成,膜厚D为100nm~63μm。
地址 日本东京都