发明名称 聚二烷基矽烷
摘要
申请公布号 TWI507452 申请公布日期 2015.11.11
申请号 TW103131133 申请日期 2013.02.27
申请人 日本曹达股份有限公司 发明人 林谦一;安原正道;豊冈诚;前川秀树
分类号 C08G77/60 主分类号 C08G77/60
代理机构 代理人 阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种聚二烷基矽烷,系以下述聚二烷基矽烷之制造方法制成,该制造方法包含将下述式[I]表示之化合物[I]添加于含有硷金属之有机溶剂的步骤, 式[I]中,R1及R2独立表示烷基,X1及X2独立表示卤素原子,该制造方法中,0.010[hr-1]≦化合物[I]之平均添加速度[莫耳.hr-1]/硷金属之量[莫耳]≦0.055[hr-1],该聚二烷基矽烷之傅立叶转换红外吸收光谱中之1100cm-1附近与1250cm-1附近的波峰强度比为0~0.05。
地址 日本