发明名称 形成精细图案之方法
摘要
申请公布号 TWI508131 申请公布日期 2015.11.11
申请号 TW099125552 申请日期 2010.08.02
申请人 海力士半导体股份有限公司 发明人 朴昌汉;李银荷
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;王彦评 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 一种形成精细图案之方法,其包括下列步骤:在一蚀刻目标层上形成一伸展跨越一第一区域及一第二区域之硬光罩层;在该第一区域之该硬光罩层上形成一牺牲层图案;在形成一隔片图案于其诸侧壁上之后移除该牺牲层图案;藉运用该隔片图案作为一蚀刻屏蔽并蚀刻该第一区域之该硬光罩层而在该等第一及该第二区域形成初级硬光罩图案,其中每一个该初级硬光罩图案之左侧和右侧系彼此对称;移除该隔片图案;在该等第一及第二区域之该初级硬光罩图案上形成一经切割之光罩图案,其中该经切割之光罩图案分别使该等第一及第二区域之该初级硬光罩图案的部分暴露以供随后蚀刻;藉运用该经切割之光罩图案作为一蚀刻屏蔽并蚀刻该等第一及第二区域之该初级硬光罩图案而同时在该等第一及该第二区域形成最终硬光罩图案;移除该经切割之光罩图案;及藉运用该等第一及第二区域之该最终硬光罩图案作为一蚀刻屏蔽并对该蚀刻目标层进行蚀刻,而分别在该等第一及第二区域中形成图案。
地址 南韩