发明名称 DISCRETE SOURCE MASK OPTIMIZATION
摘要 <p>본 명세서에서는 리소그래피 투영 장치를 이용하여 기판 상에 디자인 레이아웃의 일부분을 이미징하는 리소그래피 공정을 개선하는 컴퓨터-구현 방법이 개시되며, 상기 방법은: 요구되는 퓨필 프로파일을 제공하는 단계; 요구되는 퓨필 프로파일에 기초하여 이산 퓨필 프로파일을 계산하는 단계; 이산 퓨필 프로파일에 대한 이산 변화를 선택하는 단계; 및 이산 퓨필 프로파일에 선택된 이산 변화를 적용하는 단계를 포함한다. 본 명세서에 개시된 다양한 실시예들에 따른 방법들은 O(a)에서 O(n)로 이산 최적화의 연산 비용을 감소시킬 수 있으며, a는 상수이고, n은 퓨필 프로파일에서 이산 변화를 야기할 수 있는 노브들의 수이다.</p>
申请公布号 KR20150125691(A) 申请公布日期 2015.11.09
申请号 KR20157026478 申请日期 2014.02.04
申请人 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 发明人 리우, 샤오펭;하웰, 라파엘 씨.
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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