エピスルフィド化合物の保管方法、及び該エピスルフィド化合物を用いたチオエポキシ系光学材料の製造方法

摘要

本発明は、チオエポキシ化合物の保管方法、及び該チオエポキシ化合物を用いたチオエポキシ系光学材料の製造方法に係り、特に、チオエポキシ化合物の保管中の経時変化を防止することによって、色相及び熱安定性が良く、経時変化の少ない、無色透明性の高品質のチオエポキシ系光学材料を製造することに関する。本発明では、水分含量５００〜２，５００ｐｐｍのチオエポキシ化合物を−７８〜１０℃で保管することを含む光学材料用チオエポキシ化合物の保管方法、及びこのように保管されたチオエポキシ化合物を含有する重合性組成物を重合させることを含むチオエポキシ系光学材料の製造方法が提供される。本発明によって製造された無色透明性の高品質のチオエポキシ系光学材料は、既存の光学材料を代替して様々な分野において広く用いることができる。