发明名称 2 TWO-FLUID NOZZLE SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS SUBSTRATE LIQUID PROCESSING METHOD AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM FOR STORING SUBSTRATE LIQUID PROCESSING PROGRAM
摘要 <p>기판의 표면에 데미지를 주지 않고 양호하게 액처리할 수 있는 2 유체 노즐, 또는 이 2 유체 노즐을 이용한 기판 액처리 장치 및 기판 액처리 방법 및 기판 액처리 프로그램을 제공하는 것이다. 본 발명에서는, 제 1 액체를 토출하는 제 1 액체 토출구(45)와, 기체를 토출하는 기체 토출구(47)를 가지고, 제 1 액체 토출구(45)로부터 토출한 제 1 액체와 기체 토출구(47)로부터 토출한 기체를 외부에서 혼합하여 피처리체(기판(2))를 향해 혼합 유체(52)를 토출하는 2 유체 노즐(34)에서, 피처리체(기판(2))에 토출된 혼합 유체(52)의 피처리체 상에서의 타겟 스팟의 외연부 또는 타겟 스팟의 외연부보다 내측을 향해 제 2 액체를 공급하기 위한 제 2 액체 토출구(53)를 갖도록 했다.</p>
申请公布号 KR101566274(B1) 申请公布日期 2015.11.05
申请号 KR20120022479 申请日期 2012.03.05
申请人 发明人
分类号 H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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