发明名称 |
白金及びルテニウム材料を選択的に研磨するための組成物及び方法 |
摘要 |
<p>本発明は、白金及び/又はルテニウムを含有する基材を研磨する化学機械研磨(CMP)方法、及び本発明の方法で使用するために適当な組成物を提供する。アルミナ並びに抑制剤、錯化剤、及びアミノ化合物からなる群から選択される少なくとも1種の添加剤を含有する本発明の方法で使用される研磨組成物により、白金及びルテニウムを研磨することが可能になる。本発明の方法は、白金、ルテニウム、酸化ケイ素及び窒化ケイ素の相対的除去速度の調整を提供する。【選択図】図1</p> |
申请公布号 |
JP2015532005(A) |
申请公布日期 |
2015.11.05 |
申请号 |
JP20150528534 |
申请日期 |
2013.08.15 |
申请人 |
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发明人 |
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分类号 |
H01L21/304;B24B37/00;C09G1/02;C09K3/14 |
主分类号 |
H01L21/304 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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