发明名称 一种提高电解铜箔高温抗剥离性能的表面处理工艺
摘要 一种提高电解铜箔高温抗剥离性能的表面处理工艺,属于电解铜箔表面处理工艺技术领域,包括如下步骤:(1)电解液的制备,将络合剂焦磷酸钾、硫酸锌、硫酸镍、添加剂A混合后,溶于水,使络合剂保持澄清;(2)铜箔电镀:将预处理后的铜箔放入含有步骤(1)电解液的电镀槽中进行电镀。本发明产生的有益效果是,通过采用本发明的工艺技术,使12μm铜箔与基材结合时,高温温抗剥离强度≥1.2N/mm,对下游产品有重要意义,同时,该工艺操作简单,易于实现生产线上的稳定运行。
申请公布号 CN105018978A 申请公布日期 2015.11.04
申请号 CN201510485060.1 申请日期 2015.08.10
申请人 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 发明人 李应恩;樊斌锋;王建智;韩树华;张欣;何铁帅
分类号 C25D3/38(2006.01)I;C25D1/20(2006.01)I 主分类号 C25D3/38(2006.01)I
代理机构 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人 时立新
主权项  一种提高电解铜箔高温抗剥离性能的表面处理工艺,其特征在于,包括如下步骤:(1)电解液的制备,将络合剂焦磷酸钾、硫酸锌、硫酸镍和添加剂A混合后,溶于水,获得澄清溶液,且溶液中K<sub>4</sub>P<sub>2</sub>O<sub>7 </sub>浓度为35g/L~80g/L,Zn<sup>2+</sup>浓度为0.8g/L ~4.5g/L,Ni<sup>2+</sup>浓度为0.2g/L~1.8g/L,添加剂A浓度为 0.4g/L~1.0g/L,其中添加剂A中阳离子为K<sup>+</sup>、Zn<sup>2+</sup>和Co<sup>2+</sup>中的至少一种,阴离子为氯离子、柠檬酸根离子和硫代硫酸根离子中的至少一种;(2)铜箔电镀:将预处理后的铜箔放入含有步骤(1)电解液的电镀槽中进行电镀。
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