激光处理设备和方法

摘要

本发明涉及一种激光处理方法和设备，激光处理设备包含：激光单元，其经配置以产生激光束并且分离激光束；扫描器单元，其配备有调整激光束的传播方向的多个扫描器，并且经配置以提供激光束的传播路径；引导单元，其安置于激光单元与扫描器单元之间，并且经配置以选择性地将经分离激光束引导至扫描器；照射单元，其经配置以将穿过扫描器单元的激光束照射在基板上；以及照相单元，其经配置以为基板照相，进而监视基板并且选择性地使用激光束的波长。可以提高工作效率并简化设备。

主权项

一种用于处理基板的激光处理设备，所述激光处理设备包括：激光单元，其经配置以产生激光束并且分离所述激光束；扫描器单元，其配备有调整所述激光束的传播方向的多个扫描器，并且经配置以提供所述激光束的传播路径；引导单元，其安置于所述激光单元与所述扫描器单元之间，并且经配置以选择性地将所述经分离激光束引导至所述扫描器；照射单元，其经配置以将穿过所述扫描器单元的所述激光束照射在所述基板上；以及照相单元，其经配置以为所述基板照相。