| 发明名称 | 光学防伪元件及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光学防伪元件及其制造方法，该方法包括：在基材(1)上形成起伏结构层(2)，该起伏结构层(2)至少包括具有第一起伏结构的第一区域和与该第一区域相邻的具有第二起伏结构的第二区域，其中该第二起伏结构具有与所述基材(1)平面的夹角大于45度的侧壁，且该第二起伏结构的深宽比小于0.3；在所述起伏结构层(2)上形成镀层(3)；以及将所述镀层(3)置于去镀层环境中，直到所述第二区域上的镀层(3)从所述起伏结构层(2)剥离为止。 | ||
| 申请公布号 | CN105015215A | 申请公布日期 | 2015.11.04 |
| 申请号 | CN201410183584.0 | 申请日期 | 2014.04.30 |
| 申请人 | 中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司 | 发明人 | 胡春华;李成垚;周赟;李欣毅;张宝利;张昊宇;朱军;吴远启 |
| 分类号 | B42D25/30(2014.01)I;B42D25/40(2014.01)I | 主分类号 | B42D25/30(2014.01)I |
| 代理机构 | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人 | 罗攀;肖冰滨 |
| 主权项 | 一种光学防伪元件，该元件包括：基材(1)；位于所述基材(1)上的起伏结构层(2)，该起伏结构层(2)至少包括具有第一起伏结构的第一区域和与该第一区域相邻的具有第二起伏结构的第二区域，其中该第二起伏结构具有与所述基材(1)平面的夹角大于45度的侧壁，且该第二起伏结构的深宽比小于0.3；以及位于所述第一区域上的镀层(3)。 | ||
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