发明名称 高分子合成材料表面加硬工艺
摘要 一种高分子合成材料表面加硬工艺,其特征在于包括:一、合成材料表面预处理:使用UV喷涂线在材料的加硬面喷涂UV涂层,通过紫外线照射硬化;二、离子表面处理:将离子材料固定在夹具上,放入真空清洁设备中,使用离子设备产生放电离子,对UV涂层进行轰击处理;清洁表面,消除不同属性材料间的应力;三、光学介质薄膜加硬:真空环境中使用电子枪产生高能电子束对光学介质材料进行加热,使材料融化蒸发附着在材料表面形成薄膜;四、应力消除:使用离子源设备对介质薄膜进行轰击处理,时间为1分钟;五、表面抗污保护层:使用抵抗加热阻蒸,在真空下,在材料表面蒸发一层防污材料。本发明能够大幅提高高分子合成材料的表面硬度。
申请公布号 CN105014945A 申请公布日期 2015.11.04
申请号 CN201510354460.9 申请日期 2015.06.25
申请人 苏州爱迪尔镀膜科技有限公司 发明人 刘林兴;张义亮
分类号 B29C59/10(2006.01)I;B29C59/16(2006.01)I;B29C71/04(2006.01)I;B29C71/02(2006.01)I 主分类号 B29C59/10(2006.01)I
代理机构 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人 汤东凤
主权项 一种高分子合成材料表面加硬工艺,其特征在于:包括以下步骤:步骤一、合成材料表面预处理:使用UV喷涂线,在材料的加硬面喷涂5~20um厚度的UV涂层,通过紫外线照射使涂层硬化,使材料硬度提升至2H~4H;步骤二、离子表面处理:将离子材料固定在夹具上,放入真空清洁设备中,待真空达到1.4E‑2PA时,冲入惰性气体,使用离子设备产生放电离子,对UV涂层进行轰击处理,时间持续3~5分钟;清洁表面,在UV面形成轻微蚀刻,同时消除不同属性材料间的应力,以提高后续涂层的附着力;步骤三、光学介质薄膜加硬:在7.0E‑3PA的真空环境中,使用电子枪产生高能电子束对光学介质材料进行加热,使材料融化蒸发附着在材料表面形成300~1000nm厚度的薄膜;步骤四、应力消除:再次使用离子源设备对介质薄膜进行轰击处理,时间为1分钟,以消除加硬层应力;步骤五、表面抗污保护层:使用抵抗加热阻蒸,在真空环境下,在材料表面蒸发一层防污材料,使产品表面具有疏水性能,降低材料的摩擦系数,使材料具有防污能力。
地址 215000 江苏省苏州市吴中区木渎230省道888号广成工业园7幢