发明名称 |
细胞移植用细胞结构体、生物亲和性高分子块及它们的制造方法 |
摘要 |
本发明的课题在于提供一种不含有戊二醛那样的具有细胞毒性的物质、且抑制结构体中的移植后的细胞坏死(即,细胞存活率优异)的细胞移植用细胞结构体。根据本发明,提供一种细胞移植用细胞结构体,其为含有不含戊二醛的生物亲和性高分子块和至少一种细胞、且在多个细胞间的间隙内配置有多个生物亲和性高分子块的细胞移植用细胞结构体,所述生物亲和性高分子块的振实密度为10mg/cm<sup>3</sup>以上且500mg/cm<sup>3</sup>以下、或者所述高分子块的二维截面像的截面积的平方根÷周长的值为0.01以上且0.13以下。 |
申请公布号 |
CN105025940A |
申请公布日期 |
2015.11.04 |
申请号 |
CN201480011005.2 |
申请日期 |
2014.02.27 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
中村健太郎;岩泽玲子;三好隼人;山口雄大;伏见英生 |
分类号 |
A61L27/00(2006.01)I;A61K35/12(2006.01)I;A61P43/00(2006.01)I;C12N11/04(2006.01)I;C12N5/07(2006.01)I;C12N5/071(2006.01)I;C12N5/074(2006.01)I;C12N5/078(2006.01)I |
主分类号 |
A61L27/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
蒋亭 |
主权项 |
一种细胞移植用细胞结构体,其为含有不含戊二醛的生物亲和性高分子块和至少一种细胞、且在多个细胞间的间隙内配置有多个生物亲和性高分子块的细胞移植用细胞结构体,所述生物亲和性高分子块的振实密度为10mg/cm<sup>3</sup>以上且500mg/cm<sup>3</sup>以下、或者所述高分子块的二维截面像的截面积的平方根÷周长的值为0.01以上且0.13以下。 |
地址 |
日本国东京都 |