薄膜沉积装置

摘要

本发明涉及一种薄膜沉积装置，本发明的薄膜沉积装置包含：气体供给部，其具备至少一个以上的气体供给模块，所述气体供给模块供给包含原料气体与反应气体的多种制程气体及吹扫气体，对残留的所述制程气体或所述吹扫气体进行排气；及基板支撑部，其支撑基板，以可相对于所述气体供给部而移动的方式所具备；且所述基板支撑部执行包含多次分步前进及分步后退的至少一个的循环移动，在进行所述一个循环移动的情况下，所述基板的最初位置与最终位置之间的循环移动距离为所述一个气体供给模块的长度以上。本发明可将薄膜沉积装置的设置面积及体积最小化，进而维持薄膜的质量。

主权项

一种薄膜沉积装置，其特征在于包含：气体供给部，其具备至少一个的气体供给模块，所述气体供给模块供给包含原料气体与反应气体的多种制程气体及吹扫气体，对残留的所述制程气体或所述吹扫气体进行排气；及基板支撑部，其支撑基板，并以相对于所述气体供给部可移动的方式被具备；且所述基板支撑部执行包含多次分步前进及分步后退的至少一个的循环移动，在进行所述至少一个的循环移动的情况下，所述基板的最初位置与最终位置之间的循环移动距离为所述至少一个的气体供给模块的长度以上。