发明名称 |
化学机械抛光垫 |
摘要 |
提供一种化学机械抛光垫,其含有具有抛光表面的抛光层,其中所述抛光层包含包括以下的成分的反应产物:异氰酸酯封端的氨基甲酸酯预聚物;和固化剂系统,其含有高分子量多元醇固化剂;和双官能固化剂。<pb pnum="1" /> |
申请公布号 |
CN105014528A |
申请公布日期 |
2015.11.04 |
申请号 |
CN201510188781.6 |
申请日期 |
2015.04.20 |
申请人 |
陶氏环球技术有限公司;罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
发明人 |
B·钱;M·W·格鲁特 |
分类号 |
B24B37/24(2012.01)I;B24B37/22(2012.01)I;B24B37/10(2012.01)I;C08G18/65(2006.01)I;C08G18/40(2006.01)I;C08G18/32(2006.01)I;C08G18/10(2006.01)I |
主分类号 |
B24B37/24(2012.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
陈哲锋;江磊 |
主权项 |
一种化学机械抛光垫,其包含:具有抛光表面的抛光层,其中所述抛光层包含包括以下的成分的反应产物:具有8.5到9.5重量%的未反应的NCO基团的异氰酸酯封端的氨基甲酸酯预聚物;和固化剂系统,其包含:10到60重量%的高分子量多元醇固化剂,其中所述高分子量多元醇固化剂具有2,500到100,000的数量平均分子量M<sub>N</sub>;并且其中所述高分子量多元醇固化剂每分子具有平均3到10个羟基;和40到90重量%的双官能固化剂。 |
地址 |
美国密歇根州 |