| 发明名称 |
LITHOGRAPHICALLY PRODUCED FEATURES |
| 摘要 |
본 발명은 재료 내 리소그래피로 생성된 구조물에서 라인 에지 거칠기(line edge roughness)를 개질하기 위한 방법으로서, 라인 에지 거칠기를 가지는 구조물의 영역 상에 하전된 친수성 중합체 블록 및 하전되지 않은 친수성 중합체 블록을 포함하는 블록 공중합체를 도포하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다. |
| 申请公布号 |
KR20150123269(A) |
申请公布日期 |
2015.11.03 |
| 申请号 |
KR20157025785 |
申请日期 |
2014.02.25 |
| 申请人 |
THE UNIVERSITY OF QUEENSLAND |
发明人 |
BLAKEY IDRISS;CHUANG YA MI;WHITTAKER ANDREW KEITH;JACK KEVIN STANLEY |
| 分类号 |
G03F7/00 |
主分类号 |
G03F7/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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