发明名称 METHOD AND ARRANGEMENT FOR PHOTON ABLATION OF A TARGET
摘要 본 발명은 일반적으로 재료 처리의 활용에 적용되는 방사 조사선 전송 기술에 관한 것이다. 본 발명은 스캐너 또는 개량 스캐너를 포함하는 방사 조사선 전송 경로 또는 개량된 방사 조사선 전송 경로를 포함하는 방사원 장치에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 기화 및/또는 융발에 적합한 타겟 재료에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 개량된 스캐너에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 본 발명에 따른 방사원 장치를 구비하는 진공 기화/융발 장치에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 코팅 및/또는 타겟 물질 제조에 사용되는 타겟 재료 유닛에 관한 것이다.
申请公布号 KR101565099(B1) 申请公布日期 2015.11.03
申请号 KR20097016607 申请日期 2008.02.22
申请人 피코데온 리미티드 오와이 发明人 루트 자리;밀리마키 베사;라팔라이넨 레이조;풀리 라세;마키탈로 주하;일라탈로 삼포
分类号 B23K26/0622;C23C14/28;H01J37/32 主分类号 B23K26/0622
代理机构 代理人
主权项
地址