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发明名称
测量系统及测量方法
摘要
本发明系扫描电子束而高精度地测量上层图案与下层图案间之重合偏差。;对基板上具有第一图案及藉由较第一图案更后之工序形成之第二图案之试样之包含第一及第二图案的区域扫描电子束,并针对在电子束之扫描区域内定义之复数之图案位置测量区域,以电子束之扫描方向及顺序变成轴对称或点对称之方式扫描电子束,藉此减少因带电之非对称性引起的测量误差,从而高精度地测量第一图案与第二图案间之重合偏差。
申请公布号
TW201541071
申请公布日期
2015.11.01
申请号
TW104113318
申请日期
2015.04.24
申请人
日立全球先端科技股份有限公司 HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人
堀田尚二 HOTTA, SHOJI;川田洋挥 KAWADA, HIROKI;井上修 INOUE, OSAMU
分类号
G01N23/225(2006.01);G03F7/20(2006.01);G01B15/00(2006.01)
主分类号
G01N23/225(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本 JP
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