氧电浆蚀刻用抗蚀剂材料、抗蚀剂膜、及使用其之积层体

摘要

本发明之课题在于提供一种氧电浆蚀刻蚀刻用抗蚀剂材料，其可适当地于多层抗蚀剂制程中作为对氧电浆之耐乾式蚀刻性优异及无需利用烘烤之水解硬化过程的含矽膜，其进而对有机下层膜之密接性良好，于利用生产性更高之UV奈米压印之图案化方面亦属适切。;本发明藉由提供含有特定之矽氧烷树脂、进而成为特定矽原子含量之氧电浆蚀刻用抗蚀剂材料，而解决上述课题。