| 发明名称 |
低介电常数及低光泽度之聚醯亚胺膜及其制备方法;POLYIMIDE FILM HAVING A LOW DIELECTRIC CONSTANT AND LOW GLOSS AND MANUFACTURE METHOD THEREOF |
| 摘要 |
本发明系关于一种聚醯亚胺膜及其制备方法，该聚醯亚胺膜具有低介电常数及低光泽度，其包括构成该膜主结构之聚醯亚胺、0.5wt%至5wt%之碳黑、及15wt%至40wt%之含氟高分子。该聚醯亚胺膜可为单层膜或多层膜。 |
| 申请公布号 |
TW201540757 |
申请公布日期 |
2015.11.01 |
| 申请号 |
TW103115180 |
申请日期 |
2014.04.28 |
| 申请人 |
达迈科技股份有限公司 TAIMIDE TECHNOLOGY INCORPORATION |
发明人 |
赖俊廷 LAI, CHUN TING;林志维 LIN, CHIH WEI |
| 分类号 |
C08J5/18(2006.01);C08L79/08(2006.01);C08K3/04(2006.01) |
主分类号 |
C08J5/18(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
邵琼慧 |
| 主权项 |
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| 地址 |
新竹县新埔镇文德路3段127号 TW |
