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经营范围
发明名称
曝光装置、曝光方法及元件制造方法
摘要
申请公布号
TWI506674
申请公布日期
2015.11.01
申请号
TW101108426
申请日期
2005.09.16
申请人
尼康股份有限公司
发明人
水谷刚之
分类号
H01L21/027;G03F7/20
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
一种曝光装置,系透过液体而使基板曝光之液浸曝光装置,其特征在于具备:投影光学系统;第1嘴构件,具有用以供应该液体之供应口;第2嘴构件,配置成与第1嘴构件分离且具有液体回收口;及驱动机构,能相对于该第1嘴构件而移动该第2嘴构件。
地址
日本
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