发明名称 曝光装置、曝光方法及元件制造方法
摘要
申请公布号 TWI506674 申请公布日期 2015.11.01
申请号 TW101108426 申请日期 2005.09.16
申请人 尼康股份有限公司 发明人 水谷刚之
分类号 H01L21/027;G03F7/20 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种曝光装置,系透过液体而使基板曝光之液浸曝光装置,其特征在于具备:投影光学系统;第1嘴构件,具有用以供应该液体之供应口;第2嘴构件,配置成与第1嘴构件分离且具有液体回收口;及驱动机构,能相对于该第1嘴构件而移动该第2嘴构件。
地址 日本