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经营范围
发明名称
显示装置的制造方法
摘要
申请公布号
TWI506677
申请公布日期
2015.11.01
申请号
TW097130667
申请日期
2008.08.12
申请人
半导体能源研究所股份有限公司
发明人
山崎舜平;手塚佑朗;古野诚;鸟海聪志;神保安弘;大力浩二
分类号
H01L21/205
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
一种显示装置的制造方法,包括如下步骤:在基板上形成闸电极;在该闸电极上形成闸绝缘膜;在该闸绝缘膜上利用电浆CVD法形成微晶半导体膜;以及在该微晶半导体膜上形成非晶半导体膜,其中该微晶半导体膜具有1×1017atoms/cm3或更少的氧浓度。
地址
日本
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