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经营范围
发明名称
溅镀靶
摘要
本发明提供的溅镀靶,目的在于达成溅镀靶之长寿命化,及在其间形成于基板上的薄膜之膜厚均匀性之兼顾,系包含靶材的溅镀靶,上述靶材在其溅镀面具有:位于之圆形平坦的第1区域;及在上述第1区域之外侧以和上述第1区域呈同心圆状被配置的环状之第2区域;相对于上述第2区域,上述第1区域最大在较上述第2区域的厚度低15%之位置被配置,上述第1区域之直径设为上述溅镀面的外周直径之60%~80%。
申请公布号
TW201540857
申请公布日期
2015.11.01
申请号
TW104101813
申请日期
2015.01.20
申请人
住友化学股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人
泷川干雄 TAKIGAWA, MIKIO;黒田稔顕 KURODA, TOSHIAKI
分类号
C23C14/34(2006.01);H01L21/285(2006.01)
主分类号
C23C14/34(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本 JP
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