空白光罩、光罩及半导体积体电路之制造方法;PHOTO MASK BLANK, PHOTO MASK AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT

摘要

一种空白光罩，其系用于制作适用ArF准分子雷射光的光罩之空白光罩，其系在透光性基板上具有多层构造之薄膜，且前述薄膜的最上层系由含铬、与氮、氧及碳之中的至少一者之材料所构成的非晶构造。