发明名称 标志或铭刻工件之方法及设备
摘要
申请公布号 TWI505895 申请公布日期 2015.11.01
申请号 TW098140523 申请日期 2009.11.27
申请人 特萨股份有限公司 发明人 库斯 艾尼;瑞特 斯温;鲁曼 伯恩德
分类号 B23K26/36 主分类号 B23K26/36
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;王彦评 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 一种标志或铭刻工件(3)之方法,其系以高能辐射,特别是以雷射束(1)标志或铭刻工件,该工件(3)具有光散射表面(9),且该工件(3)之材料对辐射波长系透明的,及一聚合物基质(7)配设在该工件(3)上,使得在辐射撞击到该聚合物基质(7)之前,通过该工件(3)及其光散射表面(9),其特征在于,该工件(3)之该光散射表面(9)以液体或黏质弹性介质(11)湿润。
地址 德国
您可能感兴趣的专利