发明名称 利用电浆增强氧化进行钝化之矽蚀刻
摘要
申请公布号 TWI506691 申请公布日期 2015.11.01
申请号 TW098135956 申请日期 2009.10.23
申请人 兰姆研究公司 发明人 威尼柴克 杰洛斯罗W;戚比 罗伯特P
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 许峻荣 新竹市民族路37号10楼
主权项 一种矽层之蚀刻方法,该方法系利用其中放置该矽层之蚀刻腔室,并透过形成于该矽层上之图案化遮罩加以完成,该方法包含:矽层提供步骤,提供其上形成有该图案化遮罩的该矽层;蚀刻气体供给步骤,提供含有含氟气体及含氧及氢之气体的蚀刻气体至该蚀刻腔室;电浆产生步骤,由该蚀刻气体产生电浆;蚀刻步骤,利用该电浆透过该图案化遮罩将特征部蚀刻至该矽层;及中止步骤,中止该蚀刻气体,其中该含氧及氢之气体含有水蒸汽或醇类之至少其中一者。
地址 美国