发明名称 正型光阻材料及利用此之图案形成方法
摘要
申请公布号 TWI506362 申请公布日期 2015.11.01
申请号 TW104101888 申请日期 2015.01.21
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 畠山润;长谷川幸士
分类号 G03F7/004;C08F212/14;C08F220/18;C08F220/30;C08F220/32;C08F220/38;C08F232/08;G03F7/039;G03F7/20;G03F1/20;G03F1/22;G03F7/30;H01L21/027 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼
主权项 一种正型光阻材料,其特征为将包含以酸不稳定基取代羧基及/或苯酚性羟基之氢原子之重复单元、与下列通式(1)表示之有酱色呋喃酮酯之重复单元a之重量平均分子量为1,000~500,000之范围之高分子化合物作为基础树脂,并含有有机溶剂及酸产生剂; (式中,R1为氢原子或甲基,R2为甲基或乙基,X为单键、酯基、醚基或具有内酯环之碳数1~12之连结基、伸苯基、或伸萘基)。
地址 日本