| 主权项 |
一种立式热处理设备，包含：立式反应管，包含基板支座且被加热部所围绕，该基板支座用以承载复数个基板在复数阶层中并且执行热处理于该等基板；及处理气体供应部，设置在该反应管之纵长方向，并且具有复数个气体喷出口对应至个别之该等基板在纵向位置形成以供应处理气体至承载于该基板支座的该等基板上，其中，该反应管具有排气口在相对于该反应管之中心与该等气体喷出口相反的位置形成于其中，及该基板支座包含：复数个圆形支座盘，相间隔地以层状堆叠，且每一者具有复数个基板放置区形成于其上；及支撑该等支座盘的复数个支撑杆，该等支撑杆以该等支座盘之圆周方向加以设置而穿透该等支座盘，该等支撑杆之外部位置位在与该等支座盘之外部边缘相同的径向位置，或位在相对于该反应管之该中心该等支座盘之该等外部边缘内侧的径向位置；且该反应管包含：第一反应管，配置成可开放和可密闭的；及第二反应管，设置于该第一反应管内部且容纳该基板支座；该处理气体供应部包含以该基板支座之纵长方向放置于该第二反应管内部之气体注射器；该排气口在该第二反应管内与该气体注射器相反的位置形成，该排气口在该气体注射器之纵长方向具有狭缝形状；及设置排出该第一反应管与该第二反应管之间区域的气体气压之排出端口以相连该区域。
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