| 发明名称 | 成膜装置、成膜方法、转速之最佳化方法及记忆媒体 | ||
| 摘要 | |||
| 申请公布号 | TWI506713 | 申请公布日期 | 2015.11.01 |
| 申请号 | TW100109400 | 申请日期 | 2011.03.18 |
| 申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 伊藤章三 |
| 分类号 | H01L21/67;C23C16/54 | 主分类号 | H01L21/67 |
| 代理机构 | 代理人 | 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 | |
| 主权项 | 一种成膜装置，用以在被处理体形成期望之膜，其特征在于，包含：处理容器，收容该被处理体；气体供给机构，具有向该处理容器内喷射气体之气体喷射口；固持机构，将该被处理体固持于该处理容器内；驱动机构，使该固持机构对于该气体喷射口进行相对的旋转或周期性移动；以及控制机构，用以控制该气体供给机构与该驱动机构；并且，于该控制机构控制该气体供给机构执行P次(P系大于2的自然数)由供给期间(进行至少1种以上的气体之供给)与供给停止期间(停止供给)所构成的循环时，该控制机构将被处理体的周围分割成分割数K(K=P)个，并控制令P次中之各循环的气体供给开始位置逐次依序沿周方向移动1个分割量。 | ||
| 地址 | 日本 | ||