微影装置、辐射源及微影系统;A LITHOGRAPHIC APPARATUS, RADIATION SOURCE, AND LITHOGRAPHIC SYSTEM

摘要

一种用于将图案自图案化器件投影至基板上之微影装置，其包含经建构以支撑图案化器件之图案化器件支撑结构，及经建构以固持基板之基板支撑件。该装置经组态以在至微影装置之输入端处接收处于操作波长之辐射光束且沿着辐射路径来导向处于该操作波长之辐射光束，使得在操作中当图案化器件系由图案化器件支撑结构支撑且基板系由基板支撑件固持时，来自图案化器件之图案投影至基板上。操作波长为大约4.37奈米、大约9.49奈米、大约10.5奈米、大约11.3奈米、大约17.1奈米、大约22.8奈米中之一者，或在大约22.8奈米至大约25.2奈米之范围内。